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POWER PLAN
setup에서는 각각의 환경에서 칩이 어떻게 동작하는지([[SDF|.sdf]], .lef, [[Liberty|.lib]], .netlist)
floor plan에서는 chip의 동작에 따라 구성할 건지 크기 결정
Global Nets
Power Planning 이전에 Connect Global Nets를 실행한다.
- netlist의 Power/Ground와 P&R에서 Power/Ground를 알려줘야 한다.
- netlist에서 VDD/VSS를 확인하고 없으면 netlist에 선언하고 저장한다.
innovus 에서는
netlist에서 작성한 Pin name(VDD, VSS)을 넣고
global net에서는 import에서 Power/Ground nets(VDD, VSS)를 넣어준다.
global net은 VDD, VSS로 명시하면, Power Ring, Stripe, Tap Cell 등이 이 net을 기준으로 생성된다.
또한 CLK같은 전역 클락도 global net으로 등록하면 CTS가 해당 net을 clock source로 인식한다.
Pin 할당은 여러가지 방법이 있으나, starting point를 주고 offset 값으로 설정하는 것이 가장 편리하다.
Power Planning?
칩 전체에 VDD와 VSS를 안정적으로 분배하기 위한 구조를 설계하는 과정
IR Drop, EM(Electro Migration) 등의 PI(Power Integrity)이슈를 방지하는 것이 목적.
- 모든 인스턴스에 충분한 전력 및 접지를 공급하는 글로벌 전력 분배 네트워크 설계 프로세스
- 칩의 여러 부분에 필요한 전력을 전달하는데 필요한 Metal Layer 선택이 포함
- 부적절한 전력 분배로 인해 과도한 전압 강하 및 타이밍에 영향을 미침
- 해결을 위해 충분한 VDD 및 VSS 패드를 제공하여 디바이스의 전원 공급 보장
구성 요소 | 설명 |
---|---|
Power Ring | 코어 영역 바깥쪽에 VDD/VSS를 분리된 큰 사각형으로 둘러침 |
Power Stripe | 코어 내부에 수직/수평으로 VDD/VSS 라인을 그리드처럼 배치 |
Tap Cell / Endcap Cell | Substrate 연결, ESD 방지용 셀 배치 |
Standard Cell Power Rail | 각 Row마다 VDD/GND 가로 전력선 제공 |
Via, Metal Layer | 층간 전력 연결을 위해 다층 배선 필요 |
Power Planning 순서
- Power Ring 생성:
Add Ring - Core 중심으로 외곽에 큰 전원 틀 만들기 - Power Stripe 생성:
Add Stripe - Core에 Power/Ground가 잘 들어갈 수 있도록 내부 수직/수평 라인 형성(격자 구조) - Tap Cell, Well Tie 삽입:
Latch-up 방지, Tap Cell, Well Tie용 셀 삽입
- 모든 인스턴스에 충분한 전력 및 접지를 공급하는 프로세스(필요한 metal layer 포함)
- Cell 마다, Block 마다 동일한 전력을 공급하기 위한 배치를 구성
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